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重生港岛财阀,开局做空鹰酱 第171章 里程碑,史前第一台70nm光刻机!(2/2)

磊还是忍不住敲打道:

  “拜尔斯,虽然我们目前制造出了远超同行的光刻设备,但远远没有到可以大意的时候,我们要尽早将光源波长提高到157nm!”

  光刻机技术的升级,可以简单的看作光源波长的升级。

  通过用更高级的曝光光源,来支撑技术进步到下一代。

  为了追求更高的分辨率,光源波长从最初的365nm,到248nm,再到如今pas5500使用的193nm。

  据王磊对光刻机发展进程的了解,想要从248nm进化到193nm并不是最难的一步。

  用不了几年,尼康、佳能、以及美丽国的gca都会相继走到这一步。

  最困难的还是向157nm的技术升级。

  所有的大厂商都被卡在这一步上。

  谁先迈出这一步,便会奠定一超多强的格局,彻底成为光刻机行业的霸主。

  拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大,刚完成了技术升级,又开始琢磨着下一代光刻机。

  “你放心,不管研发中遇到多少困难,我都会全力支持你们的研发!”

  说这话的时候,王磊却将思绪飘到了台积电。

  那里有一位龙裔科学家,堪称半导体“鬼才”一般的存在。

  正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式!

  他创造性的提出用水作为曝光介质,光源波长还是用原来的193nm,但通过水的折射,使进入光阻的波长缩小到134nm。

  以前的干式法中,曝光介质用的是空气。

  它们的区别在于折射率,193nm光源在空气中的折射率为1,在水中折射率为1.4。

  这也就意味着相同光源条件下,浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。

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